[发明专利]光刻投影物镜、边缘曝光系统和边缘曝光装置有效
| 申请号： | 201711243395.8 | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN109856915B | 公开（公告）日： | 2020-07-14 |
| 发明（设计）人： | 程习敏;田翠侠;蓝科 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B13/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻投影物镜，所述光刻投影物镜包括第一镜组、第二镜组、第三镜组、第四镜组、第五镜组、第六镜组，所述第一镜组、第二镜组、第三镜组、第四镜组、第五镜组、第六镜组的焦距满足：0.05f1/f0.15；‑0.32f2/f‑0.22；0.08f3/f0.18；0.05f4/f0.15；‑0.7f5/f‑0.5；0.06f6/f0.16；其中，所述光刻投影物镜的总焦距为f，所述第一镜组的焦距为f1，所述第二镜组的焦距为f2，所述第三镜组的焦距为f3，所述第四镜组的焦距为f4，所述第五镜组的焦距为f5，所述第六镜组的焦距为f6。本发明提供的一种光刻投影物镜能够使得操作简单。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 投影 物镜 边缘 曝光 系统 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影物镜，其特征在于，所述光刻投影物镜包括第一镜组、第二镜组、第三镜组、第四镜组、第五镜组、第六镜组，所述第一镜组、第二镜组、第三镜组、第四镜组、第五镜组、第六镜组的焦距满足：0.05<f1/f<0.15；‑0.32<f2/f<‑0.22；0.08<f3/f<0.18；0.05<f4/f<0.15；‑0.7<f5/f<‑0.5；0.06<f6/f<0.16；其中，所述光刻投影物镜的总焦距为f，所述第一镜组的焦距为f1，所述第二镜组的焦距为f2，所述第三镜组的焦距为f3，所述第四镜组的焦距为f4，所述第五镜组的焦距为f5，所述第六镜组的焦距为f6。
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