[发明专利]发光装置及其制作方法有效
| 申请号： | 201710979450.3 | 申请日： | 2017-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN107968141B | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | 洪政暐;杜隆琦;张瑞夫;曾春铭;陈韵筑 | 申请（专利权）人： | 新世纪光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/20 | 分类号： | H01L33/20;H01L33/46;H01L33/50 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 徐伟 |
| 地址： | 中国台湾台南市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： |
一种发光装置，包括：至少一发光单元、波长转换胶层以及反射保护件。发光单元具有彼此相对的上表面与下表面。发光单元包括二电极垫，且二电极垫位于下表面。波长转换胶层设置于上表面。波长转换胶层包括低浓度荧光胶层以及高浓度荧光胶层。高浓度荧光胶层位于低浓度荧光胶层与发光单元之间。反射保护件包覆发光单元以及部分波长转换胶层，且至少暴露出发光单元的二电极垫及低浓度荧光胶层。高浓度荧光胶层的宽度为W |
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| 搜索关键词： | 发光 装置 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种发光装置，包括：至少一发光单元，该发光单元具有彼此相对的一上表面与一下表面，该发光单元包括二电极垫，且该二电极垫位于该发光单元的该下表面；一波长转换胶层，设置于该发光单元的该上表面，该波长转换胶层包括一低浓度荧光胶层以及一高浓度荧光胶层，且该高浓度荧光胶层位于该低浓度荧光胶层与该发光单元之间；以及一反射保护件，包覆该发光单元以及部分该波长转换胶层，且至少暴露出该发光单元的该二电极垫及该低浓度荧光胶层，其中，该高浓度荧光胶层的宽度为WH，该低浓度荧光胶层的宽度为WL，该发光单元的宽度为WE，该发光装置更满足以下的不等式：WE<WL,WH<WL；以及0.8<WH/WE≦1.2。
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