[发明专利]沉积掩模有效
| 申请号： | 201710778001.2 | 申请日： | 2013-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN107620032B | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 金南珍;朴徹桓 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 11204 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王达佐;刘铮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了防止在形成封装膜时发生的缺陷或确保封装膜的长寿命的沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和由该方法制造的显示装置。所述沉积掩模具有：第一部分和第二部分，所述第二部分厚于所述第一部分；所述第一部分中的至少一个开口，沉积材料穿过所述开口；以及所述第一部分中的多个通孔，所述通孔邻近和围绕所述开口，所述通孔从所述第一部分的上表面延伸至下表面，光穿过所述开口和所述多个通孔以照射所述沉积材料。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造至少一个显示装置的沉积掩模，所述沉积掩模包括：/n第一部分和围绕所述第一部分的第二部分，所述第二部分比所述第一部分厚；/n所述第一部分中的开口，沉积材料穿过所述开口；以及/n所述第一部分中的多个通孔，所述多个通孔邻近和围绕所述开口，所述通孔从所述第一部分的上表面延伸至下表面，光穿过所述开口和所述多个通孔。/n
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