[发明专利]沉积掩模有效
| 申请号： | 201710778001.2 | 申请日： | 2013-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN107620032B | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 金南珍;朴徹桓 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 11204 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王达佐;刘铮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 沉积 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于制造至少一个显示装置的沉积掩模，所述沉积掩模包括：
第一部分和围绕所述第一部分的第二部分，所述第二部分比所述第一部分厚；
所述第一部分中的开口，沉积材料穿过所述开口；以及
所述第一部分中的多个通孔，所述多个通孔邻近和围绕所述开口，所述通孔从所述第一部分的上表面延伸至下表面，光穿过所述开口和所述多个通孔。
2.如权利要求1所述的沉积掩模，其中所述第一部分的上表面和所述第二部分的上表面位于相同的平面。
3.如权利要求1所述的沉积掩模，其中所述第一部分中的所述多个通孔的密度是均匀的。
4.一种用于制造至少一个显示装置的沉积掩模，所述沉积掩模包括：
第一部分和围绕所述第一部分的第二部分，所述第二部分比所述第一部分厚；
所述第一部分中的多个开口，沉积材料穿过所述开口；
所述第一部分中的多个通孔，所述多个通孔邻近和围绕所述多个开口中的每个，所述通孔从所述第一部分的上表面延伸至下表面，光穿过所述开口和所述多个通孔。
5.如权利要求4所述的沉积掩模，其中所述第一部分的上表面和所述第二部分的上表面位于相同的平面。
6.如权利要求4所述的沉积掩模，其中所述第一部分中的所述多个通孔的密度是均匀的。
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