[发明专利]沉积掩模有效

专利信息
申请号: 201710778001.2 申请日: 2013-10-24
公开(公告)号: CN107620032B 公开(公告)日: 2019-12-13
发明(设计)人: 金南珍;朴徹桓 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;H01L51/56
代理公司: 11204 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 代理人: 王达佐;刘铮
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 沉积
【说明书】:

提供了防止在形成封装膜时发生的缺陷或确保封装膜的长寿命的沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和由该方法制造的显示装置。所述沉积掩模具有:第一部分和第二部分,所述第二部分厚于所述第一部分;所述第一部分中的至少一个开口,沉积材料穿过所述开口;以及所述第一部分中的多个通孔,所述通孔邻近和围绕所述开口,所述通孔从所述第一部分的上表面延伸至下表面,光穿过所述开口和所述多个通孔以照射所述沉积材料。

优先权要求

本申请参考于2013年4月16日向韩国专利局提交且被赋予序列号10-2013-0041835的申请,将该申请并入文本,并要求该申请的优先权。

技术领域

本发明涉及沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和由该方法制造的显示装置,更具体地,涉及防止在形成封装膜时发生的缺陷从而确保封装膜的长寿命的沉积掩模、使用该沉积掩模制造显示装置的方法和由该方法制造的显示装置。

背景技术

通常,制造显示装置的过程包括在衬底上形成特定膜的沉积过程。在这个沉积过程中,将包括与待在衬底上形成膜的部分对应的开口的掩模紧密地附接至衬底或者围绕衬底放置,然后使来自源的材料在穿过开口之后释放到衬底的预定区域上。

然而,在传统沉积过程中使用的掩模的情况中,诸如已经形成的膜的结构可能在用于形成特定膜的沉积过程中被破坏,或者可造成形成膜的缺陷、分层或寿命降低。

发明内容

本发明提供了一种防止在形成封装膜时发生的缺陷以确保封装膜的长寿命的沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和由该方法制造的显示装置。

根据本发明的一个方面,提供了一种沉积掩模,所述沉积掩模具有沉积材料穿过的开口和从最邻近所述开口的第一部分的上表面至下表面的多个开口,所述沉积掩模的第二部分的厚度大于所述第一部分的厚度,所述第二部分次邻近于所述开口。

所述第一部分的上表面和所述第二部分的上表面可位于相同的平面。

所述第一部分中的所述多个通孔的密度可以是均匀的。

根据本发明的另一方面,提供了一种沉积掩模,所述沉积掩模具有沉积材料穿过的多个开口和最邻近所述多个开口中的每个的第一部分的上表面至下表面的多个通孔,所述沉积掩模的第二部分的厚度大于所述第一部分的厚度,所述第二部分次邻近所述多个开口中的每个。

所述第一部分的上表面和所述第二部分的上表面可位于相同的平面。

所述第一部分中的所述多个通孔的密度可以是均匀的。

根据本发明的另一方面,提供了一种制造显示装置的方法,所述方法包括:在衬底上形成显示单元;形成无机膜以覆盖所述显示单元;将沉积掩模布置在所述衬底上使得沉积材料穿过的开口对应于所述显示单元,次邻近所述开口且比最邻近所述开口的所述第一部分厚的第二部分的下表面接触所述衬底的一部分使得所述沉积掩模不与所述无机膜接触,所述第一部分包括从其上表面至下表面的多个通孔,所述衬底的该部分未被所述无机膜覆盖;通过将单体沉积在所述无机膜上形成单体膜;通过将紫外线照射在所述单体膜上将所述单体膜转变成聚合物膜;以及将所述沉积掩模从所述衬底分离。

在转换过程中,所述紫外线照射在所述沉积掩模的所述第一部分和所述开口上。

所述方法还可包括:形成附加的无机膜以覆盖所述聚合物膜。

所述显示单元可包括有机发光设备。

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