[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、液晶显示面板

摘要

本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、液晶显示面板，该阵列基板包括：衬底基板；栅极层；栅极绝缘层；公共电极层，公共电极层包括第一公共电极层、第二公共电极层以及第三公共电极层，第一公共电极层和第二公共电极层分别位于栅极层的两端；源极层和漏极层；金属氧化物半导体材料层，覆盖在源极层、栅极绝缘层以及漏极层上，其中，第一公共电极层和第二公共电极层的透明电极材料与金属氧化物半导体材料层的金属氧化物半导体材料在相互接触区域形成轻掺杂漏结构LDD；钝化层；平坦层；像素电极层。通过上述方式，能够实现非离子注入的方式形成轻掺杂漏结构LDD，消除界面缺陷。

主权项

一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板；栅极层，形成在所述衬底基板上；栅极绝缘层，覆盖在所述衬底基板和所述栅极层上；公共电极层，间隔形成在所述栅极绝缘层上，其中，所述公共电极层包括第一公共电极层、第二公共电极层以及第三公共电极层，所述第一公共电极层和所述第二公共电极层分别位于所述栅极层的两端；源极层和漏极层，分别形成在所述第一公共电极层和所述第二公共电极层上；金属氧化物半导体材料层，覆盖在所述源极层、所述栅极绝缘层以及所述漏极层上，其中，所述第一公共电极层和所述第二公共电极层的透明电极材料与所述金属氧化物半导体材料层的金属氧化物半导体材料在相互接触区域形成轻掺杂漏结构LDD；钝化层，覆盖在所述金属氧化物半导体材料层、所述栅极绝缘层以及所述第三公共电极层上；平坦层，形成在所述钝化层上，其包括贯穿所述平坦层的接触孔，所述接触孔的一端延伸并贯通所述钝化层、所述金属氧化物半导体材料层，与所述漏极层连接，所述接触孔中填充的材料为透明电极材料；像素电极层，间隔形成在所述平坦层上，所述接触孔的另一端与所述像素电极层连接。