[发明专利]一种TSV封装结构的制备方法及其所制备的TSV封装结构在审
申请号: | 201710473619.8 | 申请日: | 2017-06-20 |
公开(公告)号: | CN107293515A | 公开(公告)日: | 2017-10-24 |
发明(设计)人: | 官勇;陈兢;金玉丰;林挺宇;尹雯;曹立强 | 申请(专利权)人: | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司;北京大学 |
主分类号: | H01L21/768 | 分类号: | H01L21/768;H01L23/538 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司11250 | 代理人: | 马永芬 |
地址: | 214135 江苏省无锡市新*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供了一种TSV封装结构的制备方法及其所制备的TSV封装结构,其中所述方法包括在衬底的第一表面形成盲孔;衬底包括相对设置的第一表面和第二表面;在盲孔内填充导电金属;对衬底的第二表面进行减薄至露出盲孔内的导电金属;在板体的第二表面制作第一布线层,第一布线层的至少一条导线与盲孔内的导电金属连接;在盲孔内填充导电金属的步骤之后,还包括在板体的第一表面制作第二布线层,第二布线层的至少一条导线与盲孔内的导电金属连接。由于盲孔的底部朝向衬底的第二表面突出,则在TSV封装结构深宽比较大、盲孔较深时,采用传统方法即可用在盲孔的整个内壁制备得到致密均匀的铜种子层,从而在盲孔内部所填充的Cu较均匀。 | ||
搜索关键词: | 一种 tsv 封装 结构 制备 方法 及其 | ||
【主权项】:
一种TSV封装结构的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:在衬底的第一表面形成盲孔;所述衬底包括相对设置的第一表面和第二表面;所述盲孔的底部朝向所述衬底的第二表面突出;在所述盲孔内填充导电金属;对所述衬底的第二表面进行减薄至露出盲孔内的导电金属;在板体的第二表面制作第一布线层,所述第一布线层的至少一条导线与所述盲孔内的导电金属连接;所述在所述盲孔内填充导电金属的步骤之后,还包括:在板体的第一表面制作第二布线层,所述第二布线层的至少一条导线与所述盲孔内的导电金属连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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