[发明专利]抗蚀剂组合物和图案化方法有效

专利信息
申请号: 201710421640.3 申请日: 2017-06-07
公开(公告)号: CN107479326B 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 畠山润;大桥正树 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;C07C381/12;C07D333/76;C07D279/20;C07D327/08;C07C63/70;C07C65/05;C07C271/28;C07C233/54;C07C69/82;C07C69/40;C07C69/732;C07C69/773
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 杜丽利
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明为抗蚀剂组合物和图案化方法。包含基础聚合物和碘化的苯甲酸的锍盐的抗蚀剂组合物提供高感光性和最小的LWR,这不取决于其为正性的还是负性的。
搜索关键词: 抗蚀剂 组合 图案 方法
【主权项】:
抗蚀剂组合物,其包含基础聚合物和具有式(A)的锍盐:其中,R1为羟基,C1‑C6直链、支链或环状的烷基或烷氧基,C2‑C6直链、支链或环状的酰氧基或C1‑C4直链、支链或环状的烷基磺酰氧基,其中至少一个氢可被卤素原子取代,氟,氯,溴,氨基,硝基,氰基,‑NR5‑C(=O)‑R6或‑NR5‑C(=O)‑O‑R6,其中R5为氢或C1‑C6直链、支链或环状的烷基,R6为C1‑C6直链、支链或环状的烷基或C2‑C8直链、支链或环状的烯基,X为单键或(p+1)价的C1‑C20连接基团,其可以包含醚、羰基、酯、酰胺、磺内酯、内酰胺、碳酸酯、卤素、羟基或羧基结构部分,R2、R3和R4各自独立地为氟,氯,溴,碘或可以包含氧代结构部分的C1‑C12直链、支链或环状的烷基,可以包含氧代结构部分的C2‑C12直链、支链或环状的烯基,C6‑C20芳基,C7‑C12芳烷基或C7‑C12芳氧基烷基,其中至少一个氢可以被含羟基、羧基、卤素、氰基、酰胺、硝基、磺内酯、砜或锍盐的结构部分取代,或其中在碳原子之间可以插入醚、酯、羰基、碳酸酯或磺酸酯结构部分,或R2和R3可以与它们所连接的硫原子键合在一起形成环,m为1至5的整数,n为0至3的整数,p为1至3的整数。
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