[发明专利]一种射频等离子体增强化学气相沉积方法及装置

摘要

本发明涉及一种射频等离子体增强化学气相沉积方法及装置。该方法包括以下步骤：对镀膜室进行抽真空，由等离子体产生室通入反应气体，开启与射频天线连接的射频源以激发反应气体等离子化，在镀膜室上相对等离子体发生室的一侧设置有用于约束等离子体流沿径向扩散的终端磁体，设定终端磁体的磁感应强度大于源磁体的磁感应强度，镀膜。该射频等离子体增强化学气相沉积方法利用源磁体和终端磁体的协同作用，对进入镀膜室的等离子体束流进行限场和分布调控，使等离子束流达到远程稳定和分布可控，等离子束流的离子密度与等离子发生室内等离子源附近的离子密度相当，实现等离子体束流的长程稳定传播。

主权项

1.一种射频等离子体增强化学气相沉积方法，其特征在于，包括以下步骤：对镀膜室进行抽真空，由等离子体产生室通入反应气体，开启与射频天线连接的射频源以激发反应气体等离子化，在镀膜室上相对等离子体发生室的一侧设置有用于约束等离子体流沿径向扩散的终端磁体，设定终端磁体的磁感应强度大于源磁体的磁感应强度，所述终端磁体为片状或环形终端磁体，所述源磁体为环形源磁体，终端磁体与环形源磁体同轴设置，其与环形源磁体的磁场方向一致，环形源磁体位于射频天线下游，镀膜。