[发明专利]曝光装置、器件制造方法有效

专利信息
申请号: 201710164773.7 申请日: 2004-07-26
公开(公告)号: CN106707699B 公开(公告)日: 2018-11-13
发明(设计)人: 马込伸贵;小林直行 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 李今子
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供曝光装置、器件制造方法。一种曝光装置,透过液体对基板照射曝光用光以使该基板曝光,具备:投影光学系统,将像透过液体透影;可动构件,支承该基板并移动;液体供应机构,从该可动构件的上方透过供应口对该投影光学系统下供应液体;以及液体回收机构,从该可动构件的上方透过吸引口将该供应的液体与气体一起回收;该液体回收机构具有收容从该吸引口回收且与气体分离的液体的槽、及检测收容在该槽的液体的量的检测器。
搜索关键词: 曝光 装置 器件 制造 方法
【主权项】:
1.一种曝光装置,透过液体对基板照射曝光用光以使该基板曝光,其特征在于,具备:投影光学系统,将像透过液体投影;可动构件,支承该基板并移动;液体供应机构,从该可动构件的上方透过供应口对该投影光学系统下供应液体;以及液体回收机构,从该可动构件的上方透过吸引口将该供应的液体与气体一起回收;该液体回收机构具有收容从该吸引口回收且与气体分离的液体的箱、及检测收容在该箱的液体的量的检测器。
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