[发明专利]等离子体化学气相生长装置

摘要

本发明提供一种具有附着抑制片的等离子体化学气相生长装置。附着抑制片配置于工件的设置位置与该反应炉的内壁之间。该附着抑制片是具有在彼此不同的方向上延伸的第一纤维束和第二纤维束的织物。在第一纤维束中，正面侧部分与背面侧部分在第一方向上交替排列。另外，在第二纤维束中，正面侧部分与背面侧部分在第二方向上交替排列。

主权项

一种等离子体化学气相生长装置，通过使供给到反应炉内的工艺气体等离子体化而分解，而在设置于该反应炉内的工件上生成膜，其特征在于，具备附着抑制片，所述附着抑制片抑制工艺气体向所述反应炉的内壁的附着，所述附着抑制片配置于所述反应炉内的工件的设置位置与所述反应炉的内壁之间，所述附着抑制片是由多个第一纤维束和多个第二纤维束构成的织物，所述多个第一纤维束在第一方向上延伸并且分别由多个纤维构成，所述多个第二纤维束在与所述第一方向不同的第二方向上延伸并且分别由多个纤维构成，在将所述附着抑制片的所述设置位置侧的面设为正面，将所述反应炉的内壁侧的面设为背面的情况下，在所述多个第一纤维束的各第一纤维束中，位于比所述第二纤维束靠正面侧处且在正面露出的正面侧部分与位于比所述第二纤维束靠背面侧处且未在正面露出的背面侧部分在所述第一方向上交替排列，在所述多个第二纤维束的各第二纤维束中，位于比所述第一纤维束靠正面侧处且在正面露出的正面侧部分与位于比所述第一纤维束靠背面侧处且未在正面露出的背面侧部分在所述第二方向上交替排列。