[发明专利]柔性衬底处理装置在审
| 申请号： | 201710030789.9 | 申请日： | 2012-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN106868532A | 公开（公告）日： | 2017-06-20 |
| 发明（设计）人： | 高桥实;斋藤祐美子;桃纯平;森若圭恵;楠本直人 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | C25B3/04 | 分类号： | C25B3/04;C25D1/18;C25D5/48;C25D7/06;C25D9/02;C25D11/00;C25D13/04;C25D13/16 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 李志强,黄念 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的一个方式提供一种柔性衬底处理装置，该柔性衬底处理装置能够对形成在柔性衬底上的膜状结构体所包含的氧化物稳定地进行还原处理。上述装置结构包括发送形成有膜状结构体的柔性衬底的衬底搬出部；将形成在柔性衬底上的膜状结构体所包含的氧化物电化学还原的还原部；洗涤柔性衬底及膜状结构体的洗涤部；使柔性衬底及膜状结构体干燥的干燥部；以及卷起形成有膜状结构体的柔性衬底的衬底搬入部。 | ||
| 搜索关键词： | 柔性 衬底 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种柔性衬底处理装置，包括：包括第一退绕机构的衬底搬出部，该第一退绕机构设置有缠绕着柔性衬底的第一筒管；还原处理部，该还原处理部包括容纳有电解液的第一槽、在所述第一槽中与所述柔性衬底平行的第一电极及使所述柔性衬底浸渍在所述电解液中的第一辊；包括第二槽的洗涤部，该第二槽容纳有洗涤液及以使所述柔性衬底浸渍在所述洗涤液中的方式支撑所述柔性衬底的第二辊；包括第一干燥单元的干燥部；以及包括卷绕机构的衬底搬入部，该卷绕机构设置有卷起所述柔性衬底的第二筒管，其中，在柔性衬底的搬送路径中，依次组合有所述衬底搬出部、所述还原处理部、所述洗涤部、所述干燥部及所述衬底搬入部。
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