[发明专利]蒸镀掩膜、蒸镀装置、蒸镀方法及有机EL显示装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 201680083276.8 申请日: 2016-07-22
公开(公告)号: CN109072401B 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 西田光志;岸本克彥 申请(专利权)人: 鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/50;H01L51/50;H05B33/10
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 汪飞亚;薛晓伟
地址: 中国台湾*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 提供一种在蒸镀材料蒸镀后,可以统一且以确实短的时间执行蒸镀掩膜的分离的蒸镀方法、蒸镀掩膜及蒸镀装置。包括:形成蒸镀掩膜(1)的步骤(S1),所述蒸镀掩膜(1)具有至少一部分由强磁性体构成的金属层(金属支承层);磁化金属层的步骤(S2),通过对蒸镀掩膜(1)的金属层施加电磁场来磁化金属层;吸附步骤(S3),被蒸镀基板(2)与蒸镀掩膜(1)的位置对准后,使电磁石(3)中间夹住被蒸镀基板(2)吸附蒸镀掩膜(1);堆积步骤(S4),在蒸镀掩膜(1)的对置侧配置蒸镀源(5),从蒸镀源(5)蒸发蒸镀材料,在被蒸镀基板(2)上堆积蒸镀材料;以及分离步骤(S5),通过使电磁石(3)产生排斥蒸镀掩膜(1)的磁场,从蒸镀掩膜(1)分离电磁石(3)及被蒸镀基板(2)。
搜索关键词: 蒸镀掩膜 装置 方法 有机 el 显示装置 制造
【主权项】:
1.一种蒸镀方法,其特征在于包括以下步骤:形成蒸镀掩膜步骤,形成具有至少一部分由强磁性体构成的金属层的蒸镀掩膜;磁化金属层步骤,对所述蒸镀掩膜的金属层施加磁场,磁化所述金属层;吸附步骤,被蒸镀基板与蒸镀掩膜位置对准后,使电磁石与蒸镀掩膜中间夹住被蒸镀基板吸附;堆积步骤,在所述蒸镀掩膜的对置侧配置蒸镀源,从所述蒸镀源蒸发蒸镀材料,在所述被蒸镀基板上堆积蒸镀材料;以及分离步骤,通过使所述电磁石产生排斥所述蒸镀掩膜的磁场,从所述蒸镀掩膜分离所述电磁石及所述被蒸镀基板。
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