[发明专利]布局方法、标记检测方法、曝光方法、测量装置、曝光装置、以及组件制造方法有效
| 申请号： | 201680018342.3 | 申请日： | 2016-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN107430356B | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 柴崎祐一 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20;H01L21/68 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 肖靖 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种供使用沿着X轴方向以既定间隔配置有检测中心的多个标记检测系(AL1,AL2 |
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| 搜索关键词： | 布局 方法 标记 检测 曝光 测量 装置 以及 组件 制造 | ||
【主权项】：
一种多个标记的布局方法，该多个标记供使用沿着既定面内的第1方向以既定间隔配置有检测中心的2以上的N个标记检测系检测且形成于基板上，其特征在于：在前述基板上，在前述第1方向及在前述既定面内与其交叉的第2方向形成多个区划区域，且在前述第1方向分离的至少2个标记所属的组以前述区划区域在前述第1方向的长度的间隔沿着前述第1方向重复配置；属于前述各组的标记彼此在前述第1方向分离根据前述N个标记检测系的前述第1方向的配置与前述长度定出的间隔量。
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