[实用新型]气囊式双面研磨抛光机有效

专利信息
申请号: 201621036836.8 申请日: 2016-09-05
公开(公告)号: CN206029581U 公开(公告)日: 2017-03-22
发明(设计)人: 袁保军;贺贤汉;王宇 申请(专利权)人: 上海汉虹精密机械有限公司
主分类号: B24B37/28 分类号: B24B37/28;B24B7/22
代理公司: 上海顺华专利代理有限责任公司31203 代理人: 顾雯,张星漪
地址: 200444 上海市宝*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种气囊式双面研磨抛光机,包括三个提拉气缸、气囊、上支撑盘、上研磨盘和下研磨盘,其中上支撑盘、气囊、上研磨盘和下研磨盘从上至下依次设置,三个提拉气缸的本体固定在上支撑盘上,提拉气缸的气缸杆固定在上研磨盘上。本实用新型适合蓝宝石磨抛等高压力场合。
搜索关键词: 气囊 双面 研磨 抛光机
【主权项】:
一种气囊式双面研磨抛光机,其特征在于,包括:三个提拉气缸、气囊、上支撑盘、上研磨盘和下研磨盘,其中:上支撑盘、气囊、上研磨盘和下研磨盘从上至下依次设置,三个提拉气缸的本体固定在上支撑盘上,提拉气缸的气缸杆固定在上研磨盘上。
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  • 本实用新型公开了一种新型游星轮,包括母轮和子轮,母轮外圆周上设有与研磨设备匹配的齿,其内开有与所述子轮外径相匹配的若干通孔,沿通孔设置有一组线槽I和一组线槽II,所述线槽I和线槽II的底部为半圆形,上部为矩形,顶部设置有缩口;所述线槽I的宽度为3.7~3.9毫米,深度为1.7~1.9毫米;所述线槽II的宽度为3.7~3.9毫米,深度为1.4~1.6毫米,所述子轮上设有与所述线槽I、线槽II和缩口相配合的凸起。本实用新型通过合理设置两组大小不同的线槽I和线槽II,使得工作时,母轮和子轮之间产生了一定的缓冲带,提高了成品率。
  • 一种硬盘基片研磨机的研磨承载装置-201410516900.1
  • 陈凌;王琰;任琪;程晓 - 无锡康柏斯机械科技有限公司
  • 2014-09-30 - 2015-03-04 - B24B37/28
  • 本发明公开了一种硬盘基片研磨机的研磨承载装置,包括硬盘基片承载盘,所述硬盘基片承载盘上均匀设置若干基片孔,所述硬盘基片承载盘为圆形,其外边缘为均匀的锯齿结构,当硬盘基片承载盘放置于研磨盘上,一边与研磨盘的外齿圈啮合、相对的另一边与研磨盘的内齿圈啮合。通过对硬盘基片承载盘进行改进,将硬盘基片承载盘的外边缘设置为均匀的锯齿结构,且与研磨盘的内齿圈、外齿圈均啮合连接,使得硬盘基片承载盘随着内、外齿圈的转动而旋转,增强了研磨的效果,使得研磨更均匀。
  • 磨片机游星片的改良构造-201320582446.0
  • 苏荣义;李海龙;陈宗永;孙振生;周明月;许建虹 - 天津市环欧半导体材料技术有限公司
  • 2013-09-18 - 2014-03-05 - B24B37/28
  • 本实用新型提供了一种磨片机游星片的改良构造,包括内圈、外圈、外圈带动齿,它们组成一个圆形的磨片机游星片;内圈、外圈结合处设有波纹状接合;外圈为钢材质,内圈为树脂材质。本实用新型磨片机游星片的改良构造内的部树脂材质,可以起到减缓加工时的冲击力的作用,保护了工件,降低了硅片边缘崩边、缺口的几率;外圈钢圈部分起到加强机械强度,支撑内部较软材质平面形状的作用;波纹状咬合可以避免其它形状造成的内外圈配合困难、存放复杂、加工时挂带磨盘槽造成整盘工件报废的情况,提高了合格率,而且具有结构简单,加工成本低等优点。
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