[实用新型]螺旋波等离子体化学气相沉积装置有效
申请号: | 201620451446.0 | 申请日: | 2016-05-18 |
公开(公告)号: | CN205741207U | 公开(公告)日: | 2016-11-30 |
发明(设计)人: | 於俊;黄天源;季佩宇;杨佳奇;金成刚;吴雪梅;诸葛兰剑 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | C23C16/505 | 分类号: | C23C16/505;C23C16/27 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
地址: | 215000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种螺旋波等离子体化学气相沉积装置,包括真空放电室、与所述真空放电室相连通的真空沉积室,所述真空放电室外环绕有线圈,所述真空放电室内设置有第一进气管、右旋天线,所述右旋天线外套设有屏蔽筒,所述右旋天线的一端穿过一屏蔽管且与射频电源相连接,所述真空沉积室内设置有基片台、第二进气管,所述真空沉积室通过管路连接有抽气组件。本实用新型结构简单、使用方便,通过在真空放电室内产生螺旋波等离子体,在真空沉积室内成功地得到了纳米晶金刚石薄膜,制得的纳米晶金刚石薄膜纯度高、质量好,工业生产上容易实现,沉积速率快,不存在灯丝性能衰减的问题,而且操作简单、易控制。 | ||
搜索关键词: | 螺旋 等离子体 化学 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种螺旋波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于:包括真空放电室、与所述真空放电室相连通的真空沉积室,所述真空放电室外环绕有线圈,所述真空放电室内设置有第一进气管、右旋天线,所述右旋天线外套设有屏蔽筒,所述右旋天线的一端穿过一屏蔽管且与射频电源相连接,所述真空沉积室内设置有基片台、第二进气管,所述真空沉积室通过管路连接有抽气组件。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的