[发明专利]一种研磨垫的处理方法有效
| 申请号： | 201611214088.2 | 申请日： | 2016-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN108237467B | 公开（公告）日： | 2020-10-02 |
| 发明（设计）人： | 唐强 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 董巍;高伟 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种研磨垫的处理方法，包括以下步骤：将待处理的研磨垫固定于研磨装置的研磨台上；提供晶圆保护液对所述研磨垫表面进行处理，以在所述研磨装置的研磨垫和研磨盘表面形成钝化层。根据本发明的处理方法，采用晶圆保护液处理所述研磨垫，以在研磨垫和研磨盘表面形成钝化层，在研磨盘的不锈钢板材表面形成的钝化层可以避免不锈钢板材被研磨液或去离子水腐蚀，从而降低不锈钢板材表面的金刚石颗粒脱落的风险，同时在研磨垫表面形成的钝化层可防止晶圆在研磨中被腐蚀；通过优化研磨垫处理工艺，在不影响研磨盘初始切削速率和使用寿命的情况下，有效地改善金刚石划痕缺陷，从而有效提高研磨垫使用初期的晶圆良率，并延长工具正常使用时间。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 处理 方法 | ||
【主权项】：
1.一种研磨垫的处理方法，其特征在于，包括以下步骤：将待处理的研磨垫固定于研磨装置的研磨台上；提供晶圆保护液对所述研磨垫表面进行处理，以在所述研磨装置的研磨垫和研磨盘表面形成钝化层。
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