[发明专利]一种用于器件集成封装的低温键合方法有效
申请号: | 201611073166.1 | 申请日: | 2016-11-29 |
公开(公告)号: | CN106449448B | 公开(公告)日: | 2019-05-07 |
发明(设计)人: | 宋晓辉;岳鹏飞;王建业;张伟;张松涛;宋超;梁楠;张鹰 | 申请(专利权)人: | 河南省科学院应用物理研究所有限公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 赵青朵 |
地址: | 450000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本发明提供了一种用于器件集成封装的低温键合方法,本发明基于纳米界面特殊的尺度效应、电流集聚效应、电迁移效应,在力电热多物理场循环载荷作用下实现低温低压的热压键合工艺,减少界面键合缺陷。该方法操作简单,与微电子工艺兼容,在微系统三维集成封装、光电集成器件等领域具有广泛应用前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 器件 集成 封装 低温 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于器件集成封装的低温键合方法,其特征在于,包括以下步骤:A)分别在两个待集成封装器件的键合目标面溅射金属,得到复合有金属基底的器件;B)在所述金属基底表面电化学沉积金属纳米针锥结构层,得到复合有键合层/金属基底的器件;C)将两个所述复合有键合层/金属基底的器件的键合层相对叠加后,按照以下步骤完成器件集成封装的低温键合:第一步:向所述两个键合层施加超声振动载荷;第二步:向所述两个键合层施加恒定压力和温度,并在两个金属基底间连接周期性脉冲电流,且每个周期包括两个同幅反向电流脉冲;第三步:向所述两个键合层施加恒定压力和温度,所述第三步的持续时间为2~6分钟;第四步:循环第二步和第三步;在所述第二步和第三步中,所述恒定压力为1~5MPa,温度为80~90℃;所述周期性脉冲电流幅值为10~100安培,脉宽1~2毫秒,频率大于50赫兹,所述周期性脉冲电流施加时间为10~25秒。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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