[发明专利]新型热处理设备有效
| 申请号： | 201610565610.5 | 申请日： | 2012-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN106141424B | 公开（公告）日： | 2018-05-29 |
| 发明（设计）人： | 斯蒂芬·莫法特;道格拉斯·E·霍姆格伦;塞缪尔·C·豪厄尔斯;埃德里克·唐;布鲁斯·E·亚当斯;季平·李;阿伦·缪尔·亨特 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | B23K26/00 | 分类号： | B23K26/00;B23K26/03;B23K26/06;B23K26/08;B23K26/12;H01L21/268;B23K26/0622;H01S3/00;B23K101/40 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述了光学系统，所述光学系统能够跨越包含于衬底的表面上的退火区域可靠地递送数量均匀的能量。所述光学系统经调适以在衬底的表面上的所要区域上递送或投射具有所要二维形状的数量均匀的能量。用于光学系统的能量源通常为多个激光，所述多个激光经组合以形成能量场。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 递送 衬底 激光 新型热处理 二维形状 设备描述 退火区域 能量场 能量源 投射 | ||
【主权项】：
1.一种用于热处理衬底的设备，所述设备包含：电磁能的源，可操作所述电磁能的源以产生电磁能的脉冲；衬底支撑件，可操作所述衬底支撑件以相对于所述电磁能移动衬底；及光学系统，所述光学系统安置于所述电磁能的源与所述衬底支撑件之间，所述光学系统包含脉冲组合器、脉冲成形器、均匀器及孔构件，所述孔构件具有能量阻隔构件，所述能量阻隔构件具有开口，所述开口安置于所述电磁能的焦平面处，自定位在所述均匀器的输出端的透镜递送所述电磁能。
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