[发明专利]半导体器件有效

专利信息
申请号: 201610373447.2 申请日: 2011-07-29
公开(公告)号: CN105870064B 公开(公告)日: 2019-03-22
发明(设计)人: 柴田健;柳谷优太 申请(专利权)人: 瑞萨电子株式会社
主分类号: H01L21/8244 分类号: H01L21/8244;H01L27/11
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈伟;闫剑平
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种具有高自由度的布局的半导体器件。在该半导体器件中,在第1部分(AR1)中,沿X轴方向交替地邻接地配置有多个p型阱(PW)和多个n型阱(NW),在沿Y轴方向夹着该AR1的一侧配置有相对于该多个PW的公共的供电区域(ARP2),在另一侧配置有相对于该多个NW的公共的供电区域(ARN2)。例如,在相对于PW的供电区域(ARP2)内形成有在X轴方向上具有细长形状的p+型的供电用扩散层(P+(DFE))。在AR1中,配置有跨着PW、NW的边界且沿X轴方向延伸的多个栅极层(GT)。由此形成多个MIS晶体管。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
1.一种半导体器件,其特征在于,具有:包含第1部分至第3部分的第1导电型的第1阱区域;所述第1导电型的第1供电区域;和包含第4部分的第2导电型的第2阱区域,在第1方向上,在所述第1部分和所述第2部分之间配置有所述第4部分,所述第3部分具有向着所述第1方向延伸的形状,并在与所述第1方向相交的第2方向上与所述第1部分及第2部分连结,所述第1供电区域形成在所述第3部分内,并经由所述第1阱区域而对所述第1部分和所述第2部分供给规定的电压,所述第1供电区域包含在所述第2方向上与所述第1部分的一部分或全部相对的区域以及与所述第2部分的一部分或全部相对的区域,还具有:存储阵列,其包括向着所述第1方向延伸的字线、向着所述第2方向延伸的多条位线、和配置在所述字线与多条所述位线的交点处的多个存储单元;以及对多条所述位线进行信号的输入输出的列控制电路,多个所述存储单元各自所含有的MIS晶体管的栅极层向着所述第1方向延伸,在所述第1阱区域及所述第2阱区域中形成有所述列控制电路的一部分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞萨电子株式会社,未经瑞萨电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610373447.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top