[发明专利]光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法

摘要

光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法，实现具备CD精度更高的转印用图案的光掩模。具有以下工序：准备在透明基板上形成了遮光膜的光掩模坯体；对遮光膜进行构图来形成遮光部；在进行了构图后的遮光膜上形成半透光膜；以及通过对半透光膜进行构图，来形成在透明基板上由半透光膜形成的第1半透光部、在透明基板上由膜厚比第1半透光部中的半透光膜小的半透光膜形成的第2半透光部、和露出透明基板的透光部，半透光膜由通过与遮光膜相同的蚀刻剂进行蚀刻的材料形成。在对半透光膜进行构图的工序中，实质上仅蚀刻半透光膜。

主权项

一种光掩模的制造方法，所述光掩模在透明基板上具备转印用图案，所述转印用图案包含分别对半透光膜和遮光膜进行构图而得到的透光部、遮光部、第1半透光部和第2半透光部，且所述第1半透光部和所述第2半透光部的光透射率相互不同，所述光掩模的制造方法的特征在于，具有以下工序：准备工序，准备在所述透明基板上形成了遮光膜的光掩模坯体；遮光膜构图工序，对所述遮光膜进行构图来形成遮光部；半透光膜形成工序，在进行了所述构图后的遮光膜上形成半透光膜；以及半透光膜构图工序，通过对所述半透光膜进行构图，形成在所述透明基板上由半透光膜形成的第1半透光部、在所述透明基板上由膜厚比所述第1半透光部中的半透光膜小的半透光膜形成的第2半透光部、和露出所述透明基板的透光部，在所述半透光膜形成工序中，利用通过与所述遮光膜相同的蚀刻剂进行蚀刻的材料，来形成所述半透光膜，在所述半透光膜构图工序中，实质上仅蚀刻所述半透光膜。