[发明专利]光刻设备和制造器件的方法有效
| 申请号： | 201580051801.3 | 申请日： | 2015-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN106716255B | 公开（公告）日： | 2019-06-14 |
| 发明（设计）人： | N·J·M·范德纽维拉尔;V·M·布兰科卡巴洛;C·R·德格鲁特;R·H·J·屈斯泰;D·M·菲利普斯;F·A·范德桑德;P·L·J·岗特尔;E·H·E·C·尤姆麦伦;Y·J·G·范德维基沃尔;B·D·斯霍尔滕;M·武泰;R·F·科克斯;J·A·维埃拉萨拉斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种浸没式光刻设备具有控制器(500)，所述控制器(500)被配置用以控制衬底台(WT)沿着曝光路线移动，所述曝光路线按次序包括：进入运动(R2)，其中衬底从浸没空间(10)不与所述衬底重叠的衬底外位置移动至所述浸没空间与所述衬底至少部分地重叠的衬底上位置；转移运动(R3，R4)，其中所述衬底台在所述衬底移动至所述衬底上位置之后改变速度和/或方向且移动至少一转移时间；和曝光运动，其中扫描所述衬底且使图案化的束投影至所述衬底上，其中贯穿所述转移运动，所述浸没空间的至少一部分与所述衬底重叠，且其中所述图案化的束在所述进入运动及所述转移运动期间没有被投影至所述衬底上。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 制造 器件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种浸没式光刻设备，包括：衬底台，被配置用以支撑具有多个目标部分的衬底；投影系统，被配置用以将图案化的束投影至所述衬底上；定位器，被配置用以相对于所述投影系统移动所述衬底台；液体限制结构，被配置用以将液体限制于介于所述投影系统与所述衬底和/或所述衬底台的表面之间的浸没空间；和控制器，被配置用以控制所述定位器以移动所述衬底台来遵循曝光路线，所述曝光路线按次序包括：进入运动，其中所述衬底台从所述浸没空间不与所述衬底重叠的衬底外位置移动至所述浸没空间与所述衬底至少部分地重叠的衬底上位置；转移运动，其中所述衬底台在所述衬底移动至所述衬底上位置之后改变速度和/或方向且移动至少某一转移时间；和曝光运动，其中扫描所述衬底且使所述图案化的束投影至所述衬底上，其中所述图案化的束在所述进入运动及所述转移运动期间没有被投影至所述衬底上，且其中贯穿所述转移运动，所述浸没空间的至少一部分与所述衬底重叠。
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