[发明专利]成膜掩膜、成膜掩膜的制造方法以及触摸面板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201580020787.0 申请日: 2015-04-06
公开(公告)号: CN106232857B 公开(公告)日: 2019-06-07
发明(设计)人: 水村通伸 申请(专利权)人: 株式会社V技术
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;G06F3/041
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李洋;青炜
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及成膜掩膜、成膜掩膜的制造方法以及触摸面板的制造方法,该成膜掩膜具备:片状的遮蔽部件(2),其与被形成于被成膜基板(8)上的薄膜图案对应地具有开口部(5);以及网孔(3),其在与所述遮蔽部件(2)的一面(2b)之间设置有间隙并在所述开口部(5)的侧壁(5a)部分被支承于所述遮蔽部件(2),并在所述开口部(5)内具有多个格子点(6)。
搜索关键词: 成膜掩膜 制造 方法 以及 触摸 面板
【主权项】:
1.一种成膜掩膜,其特征在于,具备:片状的由磁性金属部件构成的遮蔽部件,其与被形成于被成膜基板上的薄膜图案以一对一的方式对应地具有开口部;以及树脂制的网孔,其在与所述遮蔽部件的和所述被成膜基板紧贴一侧的一面之间设置间隙并在所述遮蔽部件的将相互邻接的所述开口部分离的分离部的靠所述开口部侧的侧壁部分被支承于所述遮蔽部件,并且在所述开口部内具有多个格子点。
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