[发明专利]半导体装置的制造装置以及半导体装置的制造方法有效
申请号: | 201510097023.3 | 申请日: | 2015-03-04 |
公开(公告)号: | CN105990186B | 公开(公告)日: | 2019-07-12 |
发明(设计)人: | 小牟田直幸 | 申请(专利权)人: | 东芝存储器株式会社 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/60;H01L21/603 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供半导体装置的制造装置以及半导体装置的制造方法。半导体装置的制造装置,具备:载物台;头部,与载物台对向;驱动部,使头部移动;荷重传感器,检测移动方向的荷重;位置传感器,检测驱动部在移动方向的位置;加热机构,对头部进行加热;及控制部,控制驱动部及加热机构;控制部通过驱动部使头部移动而接近载物台,并以由荷重传感器测得的荷重值成为目标值的方式进行荷重控制,其后,通过加热机构使头部的温度上升,并以通过驱动部使头部离开载物台的方式进行位置控制,其后,停止利用加热机构的加热并且以通过驱动部使头部接近载物台的方式进行位置控制。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 制造 以及 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置的制造装置,其特征在于包含:载物台;头部,与所述载物台对向;驱动部,使所述头部移动;荷重传感器,检测所述头部的移动方向的荷重;位置传感器,检测在所述移动方向上的所述头部的位置;加热机构,对所述头部进行加热;以及控制部,控制所述驱动部及所述加热机构;所述控制部是:通过所述驱动部使所述头部移动而接近所述载物台,并以由所述荷重传感器测得的荷重值成为预先设定的目标值的方式进行所述头部的荷重控制,在所述荷重值设定为目标的状态下,通过所述位置传感器而检测所述头部的位置,以使检测出的所述头部的位置成为预先设定的高度的方式,进一步一边进行所述驱动部的荷重控制,一边进行所述头部的位置控制,其后,通过所述加热机构使所述头部的温度上升,并以通过所述驱动部使所述头部离开所述载物台的方式进行位置控制,并且其后,停止利用所述加热机构的加热,且以通过所述驱动部使所述头部接近所述载物台的方式进行位置控制。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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