[发明专利]磁控管组件及磁控溅射设备有效
| 申请号： | 201410826533.5 | 申请日： | 2014-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN105779952B | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 李冰;边国栋;宿晓敖 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁控管组件及磁控溅射设备，包括中心永磁铁和环绕在该中心永磁铁周围的环形永磁铁，中心永磁铁和环形永磁铁的极性相反；其中，环形永磁铁采用一体式结构。本发明提供的磁控管组件，其不仅安装方便、安全，而且还可以提高外圈磁场的分布均匀性，以及在相同尺寸的外圈磁铁的条件下具有更高的磁场强度，从而在保证磁场强度不减小的情况下，可以获得更高的功率密度。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控管 组件 磁控溅射 设备 | ||
【主权项】：
一种磁控管组件，其特征在于，包括中心永磁铁和环绕在所述中心永磁铁周围的环形永磁铁，所述中心永磁铁和所述环形永磁铁的极性相反；其中，所述环形永磁铁采用一体式结构。
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