[发明专利]套刻误差测量装置及方法

摘要

本发明揭示了一种套刻误差测量装置及方法。所述套刻误差测量装置的光源系统提供宽波段的线形测量光束；测量光束入射到第一分光镜上分为两束测量光，一快门使得一束测量光通过，该束测量光入射第二分光镜上后反射；反射光通过显微物镜后每一点以不同的入射角投射到被测对象上发生反射和衍射，并再次通过所述显微物镜达到探测器上，形成衍射光谱测量信号。在进行测量时，通过快门使得两束测量光分别在被测对象上和监测光栅上发生衍射，获得光强的非对称性，从而提高了测量精度及工艺适应性，减少了测量误差干扰。

主权项

一种套刻误差测量装置，用于对放置于工件台上的被测对象进行套刻误差的分析，所述被测对象为周期性结构，所述套刻误差测量装置包括：光源系统、第一分光镜、快门、第二分光镜、显微物镜、透镜组及探测器；其中，所述光源系统提供宽波段的线形测量光束；所述测量光束入射到第一分光镜上分为两束测量光，所述快门使得其中一束测量光通过，该束测量光入射第二分光镜上后反射；反射光通过显微物镜后每一点以不同的入射角投射到被测对象上发生反射和衍射，并再次通过所述显微物镜达到探测器上，形成衍射光谱测量信号；经第一分光镜分为的两束测量光分列于所述透镜组的光轴两侧，且对称分布；该两束测量光经第二分光镜反射后分列于所述显微物镜的光轴两侧，且对称分布；还包括监测光栅，所述快门使得其中一束测量光通过，该束测量光入射第二分光镜上后还发生透射；透射光经过透镜组后投射在与被测对象共轭且周期相同的监测光栅上，透射光投射在监测光栅上后衍射光依次经过透镜组和第二分光镜到达探测器上，形成衍射光谱监测信号，利用所述衍射光谱监测信号将所述衍射光谱测量信号做归一化处理。