[发明专利]蚀刻速率测试控片的制作方法与重复利用方法有效
| 申请号： | 201410419702.3 | 申请日： | 2014-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN104155855B | 公开（公告）日： | 2017-12-15 |
| 发明（设计）人： | 高冬子 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种蚀刻速率测试控片的制作方法与重复利用方法，该重复利用方法包括如下步骤步骤10、提供一已使用过的蚀刻速率测试控片；步骤20、将光阻层(4)全部去除；步骤30、在非金属膜(3)上涂布另一光阻层(4’)，将曝光位置偏离所述已被蚀刻过的测试过孔(31)对该另一光阻层(4’)进行曝光；步骤40、测量未被所述另一光阻层(4’)覆盖的非金属膜(3)的厚度H1；步骤50、对未被另一光阻层(4’)覆盖的非金属膜(3)进行一定时间T的蚀刻，形成另一测试过孔(32)；步骤60、蚀刻完成后，测量位于另一测试过孔(32)下方的非金属膜(3)的厚度H2；并根据非金属膜(3)的厚度H1与H2、及蚀刻时间T计算蚀刻速率V。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 速率 测试 制作方法 重复 利用 方法 | ||
【主权项】：
一种蚀刻速率测试控片的重复利用方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤10、提供一已使用过的蚀刻速率测试控片；该已使用过的蚀刻速率测试控片包括玻璃基板(1)、位于玻璃基板(1)上的金属层图形(2)、位于金属层图形(2)与玻璃基板(1)上的非金属膜(3)、及位于非金属膜(3)上的光阻层(4)；所述非金属膜(3)具有至少一个已被蚀刻过的测试过孔(31)；步骤20、将所述光阻层(4)全部去除；步骤30、在所述非金属膜(3)上涂布另一光阻层(4’)，将曝光位置偏离所述已被蚀刻过的测试过孔(31)对该另一光阻层(4’)进行曝光，将对应于非金属膜(3)欲形成另一测试过孔位置上的部分另一光阻层(4’)曝掉，露出非金属膜(3)；步骤40、使用膜厚测量设备测量未被所述另一光阻层(4’)覆盖的非金属膜(3)的厚度H1；步骤50、对未被另一光阻层(4’)覆盖的非金属膜(3)进行一定时间T的蚀刻，形成另一测试过孔(32)；所述另一测试过孔(32)偏离已被蚀刻过的测试过孔(31)；步骤60、蚀刻完成后，使用膜厚测量设备测量位于另一测试过孔(32)下方的非金属膜(3)的厚度H2；并根据非金属膜(3)的厚度H1与H2、及蚀刻时间T计算蚀刻速率V。
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