[发明专利]一种改进衬底气流方向的HVPE反应器

摘要

本发明公开了一种改进衬底气流方向的HVPE反应器，其特征在于，包括壳体，壳体的顶部设有主干，壳体内设有基板座，主干的一侧设有喷射管一、喷射管二，另一侧设有进气管二、进气管三；基板座上设有基板；基板座中心设有进气管一，进气管一的上下两端从基板座中露出，其中顶端设有喷射孔；基板座与壳体内壁之间的间隙形成排气口。本发明提供的反应器生产时，内部第一反应气体、第二反应气体分别从水平方向，垂直方向互相混合，可在大多数半导体基板上形成均匀的延伸结构的薄膜。

主权项

一种改进衬底气流方向的HVPE反应器，其特征在于，包括壳体(11)，壳体(11)的顶部设有主干(7)，壳体(11)内设有基板座(2)，主干(7)的一侧设有喷射管一(8)、喷射管二(9)，另一侧设有进气管二(4)、进气管三(5)；基板座(2)上设有基板(S)；基板座(2)中心设有进气管一(3)，进气管一(3)的上下两端从基板座(2)中露出，其中顶端设有喷射孔(12)；基板座(2)与壳体(11)内壁之间的间隙形成排气口(10)。