[发明专利]用于加工载体的方法和用于制作电荷储存存储基元的方法

摘要

本发明涉及用于加工载体的方法和用于制作电荷储存存储基元的方法。一种根据各种实施例的用于加工载体的方法可包括在载体上方形成结构，该结构包括至少两个相邻的结构元件，所述至少两个相邻的结构元件按照它们之间的第一距离布置；在该结构上方沉积分隔器层，其中分隔器层可被沉积为具有大于第一距离的一半的厚度，其中分隔器层可包括导电分隔器材料；去除分隔器层的一部分，其中分隔器层的分隔器材料可保留在所述至少两个相邻的结构元件之间的区域中；以及以电气方式接触剩余分隔器材料。

主权项

一种用于加工载体的方法，所述方法包括：在载体上方形成结构，该结构包括两个相邻的结构元件，所述两个相邻的结构元件分别形成为U形，使得所述两个相邻的结构元件按照它们之间的第一距离布置；在该结构上方沉积分隔器层，其中分隔器层被沉积为具有大于第一距离的一半的厚度，其中分隔器层包括导电分隔器材料；去除分隔器层的一部分，其中分隔器层的分隔器材料保留在所述两个相邻的结构元件之间并且以电气方式接触所述两个相邻的结构元件；以及以电气方式接触剩余分隔器材料。