[发明专利]用于形成抗蚀剂下层膜的组合物

摘要

本发明的课题是提供一种用于形成抗蚀剂下层膜的组合物，所述抗蚀剂下层膜能够提高与抗蚀剂图案之间的附着性。解决手段是一种用于形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物，其含有聚合物和有机溶剂，所述聚合物在末端具有下述式(1a)、式(1b)或式(2)所表示的结构。式中，R₁表示氢原子或甲基，R₂和R₃分别独立地表示氢原子或烃基等有机基团，所述烃基可以具有至少1个羟基或甲基硫基作为取代基，R₄表示氢原子或羟基，Q₁表示亚芳基，v表示0或1，y表示1～4的整数，w表示1～4的整数，x₁表示0或1，x₂表示1～5的整数。

主权项

一种用于形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物，其含有聚合物和有机溶剂，所述聚合物在末端具有下述式(1a)、式(1b)或式(2)所表示的结构，式中，R₁表示氢原子或甲基，R₂和R₃分别独立地表示氢原子、碳原子数1～6的直链状或支链状的烃基、脂环式烃基、苯基、苯甲基、苯甲基氧基、苯甲基硫基、咪唑基或吲哚基，所述烃基、所述脂环式烃基、所述苯基、所述苯甲基、所述苯甲基氧基、所述苯甲基硫基、所述咪唑基、所述吲哚基可以具有至少1个羟基或甲基硫基作为取代基，R₄表示氢原子或羟基，Q₁表示亚芳基，v表示0或1，y表示1～4的整数，w表示1～4的整数，x₁表示0或1，x₂表示1～5的整数。