[发明专利]半导体加工设备中气体切换的装置、方法及系统

摘要

本发明公开了一种半导体加工设备中气体切换的装置、方法及系统。其中方法包括读取工艺表单中半导体加工的工艺步骤，及每一工艺步骤中每一气路的气体流量值；同步设置第一工艺步骤中气路的气体流量值，并异步设置后一工艺步骤中气路的气体流量值；第一工艺步骤执行完成之后，继续执行后一工艺步骤；同步设置当前工艺步骤中气路的气体流量值，并异步设置后一工艺步骤中气路的气体流量值；当前工艺步骤执行完成之后，继续执行工艺表单中的后一工艺步骤，直至完成工艺表单中的所有工艺任务。本发明实现了半导体加工过程中气体切换时只需操作两个控制阀，大大缩短工艺步骤间气体切换的时间，提高半导体加工的生产效率。

主权项

一种半导体加工设备中气体切换的装置，包括流量控制器、前端控制阀及后端控制阀，其特征在于，还包括排气控制阀，其中：所述流量控制器在所述前端控制阀及所述后端控制阀之间，与所述前端控制阀及所述后端控制阀连接，控制进入工艺腔室的气体流量值；所述后端控制阀一端与所述流量控制器连接，另一端与压缩气体输入设备连接，控制气体是否进入所述流量控制器；所述前端控制阀一端与所述流量控制器连接，另一端与通向工艺腔室的管路连接，控制通过所述流量控制器的气体是否流向工艺腔室；所述排气控制阀一端与所述前端控制阀并列与所述流量控制器连接，另一端与干泵连接。