[发明专利]等离子体处理装置和等离子体产生装置

摘要

本发明提供等离子体处理装置和等离子体产生装置。该等离子体处理装置包括：真空容器；基板载置部，其设于上述真空容器内，用于载置基板；气体供给部，其用于向上述真空容器内供给等离子体产生用气体；天线，能向该天线供给高频电力而使自上述气体供给部供给过来的上述等离子体产生用气体等离子体化；法拉第屏蔽件，其设于上述天线与产生等离子体的区域之间，该法拉第屏蔽件由导电板构成，在导电板中，沿着天线的长度方向排列有多个以与上述天线的延伸方向交叉的方式形成狭缝，以阻隔由上述天线形成的电磁场中的电场并使磁场通过；以及调整构件,其由用于调整上述狭缝的开口面积的导电体构成，用于调整在上述天线的长度方向上的等离子体密度。

主权项

一种等离子体处理装置，其特征在于，该等离子体处理装置包括：真空容器；基板载置部，其设于上述真空容器内，用于载置基板；气体供给部，其用于向上述真空容器内供给等离子体产生用气体；天线，能向该天线供给高频电力而使自上述气体供给部供给过来的上述等离子体产生用气体等离子体化；法拉第屏蔽件，其设于上述天线与产生等离子体的区域之间，该法拉第屏蔽件由导电板构成，在导电板中，沿着天线的长度方向排列有多个以与上述天线的延伸方向交叉的方式形成狭缝，以阻隔由上述天线形成的电磁场中的电场并使磁场通过；以及调整构件，其由用于调整上述狭缝的开口面积的导电体构成，以调整在上述天线的长度方向上的等离子体密度。