[发明专利]具有类钻碳膜的结构、指纹辨识器及其制造方法有效

申请号：	201310456067.1	申请日：	2013-09-27
公开（公告）号：	CN104513969B	公开（公告）日：	2017-06-06
发明（设计）人：	杨一新;陈鼎国	申请（专利权）人：	群创光电股份有限公司
主分类号：	C23C16/04	分类号：	C23C16/04;C23C16/26;G06K9/00
代理公司：	北京三友知识产权代理有限公司11127	代理人：	姚亮
地址：	中国台湾新竹***	国省代码：	台湾;71
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摘要：	本发明涉及一种具有类钻碳膜的结构。该具有类钻碳膜的结构包括一绝缘材、一导电层以及一类钻碳膜。导电层设置在绝缘材。类钻碳膜设置于导电层，且类钻碳膜的面积小于导电层的面积。本发明还涉及一种指纹辨识器及其制造方法。
搜索关键词：	具有类钻碳膜结构指纹辨识及其制造方法
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【主权项】：

一种指纹辨识器，包括：一基板；一指纹感测电路，设置在所述基板上；一绝缘材，设置在所述指纹感测电路上；一导电层，设置在所述绝缘材上；以及一类钻碳膜，设置于所述导电层上，且所述类钻碳膜的面积小于所述导电层的面积。

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摘要：一种基于微区阻隔法的金刚石刀具织构涂层的制备方法，其特征在于它主要包括以下步骤：首先，在金属薄膜上加工出微孔和/或微沟槽阵列作为掩膜；其次，将刀具基体进行预处理；第三，将所述掩膜固定于预处理后的刀具基体表面；第四，采用表面涂层技术在覆盖掩膜的刀具表面沉积微区阻隔薄膜，薄膜制备完成后去掉掩膜，在刀具表面形成抑制金刚石生长的具有织构特征的微区突起；第五，采用CVD方法在带有微区突起的刀具表面选择性生长金刚石织构涂层；第六，去掉第四步在刀具基体表面沉积形成的具有织构特征的微区突起。本发明方法简便快捷，成本相对较低，生长效率和成功率都比较高并且不会破坏刀具，不减小刀具本身的强度。

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一种双光束快速制备石墨烯图形的方法及装置-201710159903.8
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摘要：本发明公开了一种使用双光束制备石墨烯图形的方法及装置，所述方法包括连续激光束与短脉冲激光束同时聚焦到镍基底表面，短脉冲光束在激光脉宽时间内迅速将镍基底表面的光束聚焦区域加热至石墨烯生长温度，汇聚的连续激光束的持续加热使得该区域的温度稳定保持在石墨烯生长温度，进行石墨烯合成；所述装置设有脉冲激光单元、连续激光单元、二向色镜、光束整形与聚焦单元、真空腔、气体流量控制单元及三轴精密平移台，可实现任意石墨烯图形的快速制备。本发明使用较小的激光功率密度便可完成石墨烯图形的制备，有效降低了装置的成本，且由于脉冲激光加热速度快，热影响区小，有效提高了所制备的石墨烯图形的边缘质量及制备速度。

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一种拼装型的掩模板装置-201611136315.4
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申请日： 2016-12-09 - 公布日： 2018-12-18 - 主分类号： C23C16/04
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摘要：本发明提供一种掩膜板及OLED器件的封装方法。本发明的掩膜板通过在框体的矩形开口的四个侧边均匀设置多个矩形遮挡部，当利用该掩膜板对OLED器件进行封装时，由于矩形遮挡部三个独立的侧边均产生阴影效应，可使矩形遮挡部下方形成的钝化层膜厚与矩形开口内剩余的无遮挡的区域下方形成的钝化层膜厚相同，且矩形遮挡部与矩形开口的侧边相连的位置不产生阴影效应，而相邻两矩形遮挡部之间的第一凹槽的底边所产生的阴影效应会向相邻的矩形遮挡部与矩形开口侧边相连位置扩散而被稀释降低，从而可降低矩形开口的侧边整体的阴影效应，使钝化层的实际成膜区域与预设的设计成膜区域基本一致，能够实现窄边框设计，提升封装效果，延长器件的使用寿命。

掩膜板、显示基板、显示装置-201820617481.4
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摘要：本实用新型公开一种掩膜板、显示基板、显示装置，涉及掩膜板技术领域，为解决在对显示器件封装的过程中，由于产生的Under Coating的厚度较厚，导致显示器件的封装效果受到影响的问题。所述掩膜板，包括掩膜框架和设置在所述掩膜框架上的多个掩膜条，所述掩膜条包括沿第一方向延伸的第一掩膜条和沿第二方向延伸的第二掩膜条，所述第一掩膜条和第二掩膜条交叉设置并限定出多个开口区，所述开口区用于形成膜层图案；所述掩膜条朝向待形成的膜层一侧上设置有凸起的挡块结构。本实用新型提供的掩膜板用于封装显示器件。

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摘要：本发明涉及用于通过至少第一和第二前体的连续表面反应在基板(1，48)的表面(3)上提供一种或多种涂覆层的方法和设备。该方法包括向基板(1，48)的表面(3)供应来自第一前体喷嘴(2)的第一前体和来自第二前体喷嘴(4)的第二前体，以及使基板(1，48)相对于第一和第二前体喷嘴(2，4)中的至少一个移动。该方法还包括通过供应第一和第二前体并同时使基板(3)相对于第一和第二前体喷嘴(2，4)中的至少一个移动的协作将基板(1，48)的表面(3)的仅一个或多个第一有限子区域(20，21，22)暴露于第一和第二前体。

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摘要：本发明首先涉及到一种在CVD反应器(1)的处理室(2)中的能放置在基材(13)上的掩模(3)，在处理室中在支承至少一个基材(13)的基座(14)的上方形成竖直的温度梯度，所述掩模具有掩模体(4)，其高度维度(H)比其平面维度延伸小很多，并具有至少一个窗口(5)，所述窗口的边缘(6)决定了沉积在基材(13)上的层(15)的边缘(16)。为了改善特别是在边缘区域内的层生长的质量，建议掩模体(4)在高度维度方向(H)上具有互相重叠的层(7、8、9、10)并且在高度维度方向(H)上具有比在平面维度方向上更小的导热性。此外本发明还涉及该掩模的应用。

沉积装置、薄膜形成方法和制造有机发光显示装置的方法-201310476177.4
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申请日： 2013-10-12 - 公布日： 2018-10-09 - 主分类号： C23C16/04
摘要：公开沉积装置、薄膜形成方法和制造有机发光显示装置的方法。一种用于通过使用关于基板的掩膜执行沉积过程的沉积装置包括：室；在所述室中的支撑单元，所述支撑单元包括第一孔并且被配置为支撑所述基板；供应单元，被配置为向所述基板供应至少一种沉积原材料；和通过所述支撑单元的所述第一孔的能移动的对齐单元，所述对齐单元被配置为支撑所述掩膜，并且将所述掩膜关于所述基板对齐。

一种适用于局部生长薄膜和涂层的装置及其应用-201610247430.2
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摘要：本发明创造涉及一种适用于局部生长薄膜和涂层的装置及其应用。采用本装置，激光源将光束直接照射到基体表面待生长薄膜和/或涂层的区域上，将待生长薄膜和/或涂层的区域的表面加热到设定温度；控制装置控制气体喷出装置的气体出口与待生长薄膜和/或涂层的区域的表面相对应；将气体反应物从气体储藏罐输出，经气体管线到达气体喷出装置，并从气体出口喷射到基体表面，气体反应物在加热的基体表面发生化学反应，生成的固体产物沉积于基体表面形成薄膜和/或涂层。本发明创造可以实现在基体的局部区域生长薄膜和涂层，大大节约了原料，保护了环境。

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发明人： S·劳;R·林德伯格 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-05-15 - 公布日： 2018-01-12 - 主分类号： C23C16/04
摘要：描述一种基板边缘掩模系统。所述基板边缘掩模系统包括基板固定元件，所述基板固定元件用于保持所述基板；掩模元件，所述掩模元件用于覆盖所述基板的边缘的至少一部分；以及基板接触元件，所述基板接触元件被连接至所述掩模元件并且用于接触所述基板。

一种刀柄保护装置及应用刀柄保护装置的镀膜设备-201720295622.0
发明人：唐杰 -专利权人：惠州市中德纳微科技有限公司
申请日： 2017-03-24 - 公布日： 2017-10-03 - 主分类号： C23C16/04
摘要：本实用新型揭示了一种刀柄保护装置，并且，也同时揭示了一种应用刀柄保护装置的镀膜设备。本实用新型的刀柄保护装置结构简单，传热效果快速优秀，制造成本低廉，有效地保护刀柄，防止刀柄生成金刚石涂层，刀柄保护装置可同时放置不同规格的刀具，加快企业的生产效率，降低企业的生产成本；并且，应用刀柄保护装置的镀膜设备生成的金刚石涂层厚度均匀，金刚石涂层牢固，在刀具使用过程中，金刚石涂层不易脱落，生成金刚石涂层快速，生产的刀具质量一致性好。

专利分类

C 化学；冶金

C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的

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[发明专利]具有类钻碳膜的结构、指纹辨识器及其制造方法有效

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