专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]多层式掩模-CN201410192578.1有效
  • J·帕恩克;M·格斯多尔夫 - 艾克斯特朗欧洲公司
  • 2014-02-18 - 2018-10-19 - C23C16/04
  • 本发明首先涉及到一种在CVD反应器(1)的处理室(2)中的能放置在基材(13)上的掩模(3),在处理室中在支承至少一个基材(13)的基座(14)的上方形成竖直的温度梯度,所述掩模具有掩模体(4),其高度维度(H)比其平面维度延伸小很多,并具有至少一个窗口(5),所述窗口的边缘(6)决定了沉积在基材(13)上的层(15)的边缘(16)。为了改善特别是在边缘区域内的层生长的质量,建议掩模体(4)在高度维度方向(H)上具有互相重叠的层(7、8、9、10)并且在高度维度方向(H)上具有比在平面维度方向上更小的导热性。此外本发明还涉及该掩模的应用。
  • 多层式掩模

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