[发明专利]光刻胶的去除方法、曝光装置以及显示基板的制造方法有效
| 申请号： | 201310446586.X | 申请日： | 2013-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN103472694A | 公开（公告）日： | 2013-12-25 |
| 发明（设计）人： | 张治超;郭总杰;刘正 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种涉及显示技术领域，尤其涉及光刻胶的去除方法、曝光装置以及显示基板的制造方法，以解决现有技术中，对光刻胶进行剥离处理时，需要配置剥离设备，对光刻胶进行灰化处理时，需要配置高功率设备以及化学气体，增加了设备投入，提高了生产成本的问题。本发明实施例采用对构图工艺处理后的基板上的光刻胶进行曝光处理；通过显影处理去除曝光处理后的光刻胶；避免了现有技术中，对光刻胶进行剥离处理时，需要配置剥离设备，对光刻胶进行灰化处理时，需要配置高功率设备以及化学气体的问题，节约了设备成本，同时也降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 去除 方法 曝光 装置 以及 显示 制造 | ||
【主权项】：
一种光刻胶去除方法，用于对构图工艺处理后的基板上的光刻胶进行去除，其特征在于，该方法包括：对构图工艺处理后的基板上的光刻胶进行曝光处理；通过显影处理去除曝光处理后的光刻胶。
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