[发明专利]半导体装置无效
申请号: | 201310369496.5 | 申请日: | 2013-08-22 |
公开(公告)号: | CN103681798A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 北川光彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L29/41 | 分类号: | H01L29/41 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 杨谦;胡建新 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种实现低导通电阻化以及高耐压化的半导体装置。半导体装置包含第1半导体区域、第2半导体区域、第3半导体区域、第4半导体区域、第5半导体区域、第1电极、第2电极以及第3电极。第2半导体区域与第1半导体区域相接,具有比上述第1半导体区域高的杂质浓度。第3半导体区域与第2半导体区域相接。第4半导体区域与第3半导体区域的至少一部分相接,具有比上述第2半导体区域高的杂质浓度。第5半导体区域设在第1半导体区域的一侧。第1电极与第1半导体区域在第1方向上排列,第1电极与第3半导体区域在第2方向上排列,第1电极的某端部相比于第2半导体区域与第3半导体区域之间的边界更加位于第1半导体区域侧。第2电极设在第1电极与第1半导体区域之间,与第4半导体区域导通。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种半导体装置,具备:第1导电型的第1半导体区域;第1导电型的第2半导体区域,与上述第1半导体区域相接而设,具有比上述第1半导体区域的杂质浓度高的杂质浓度;第2导电型的第3半导体区域,设在上述第2半导体区域的与上述第1半导体区域相反的一侧,与上述第2半导体区域相接;第1导电型的第4半导体区域,与上述第3半导体区域的至少一部分相接,具有比上述第2半导体区域的杂质浓度高的杂质浓度;第2导电型的第5半导体区域,设在上述第1半导体区域的与上述第2半导体区域相反的一侧;第1电极,将上述第1半导体区域与上述第2半导体区域的层叠方向设为第1方向,将与上述第1方向正交的方向设为第2方向,将与上述第1方向及上述第2方向正交的方向设为第3方向,该第1电极与上述第1半导体区域在上述第1方向上排列,该第1电极与上述第3半导体区域在上述第2方向上排列,并且该第1电极的上述第1半导体区域侧的端部相比于上述第2半导体区域与上述第3半导体区域之间的边界更加位于上述第1半导体区域侧;第2电极,设在上述第1电极与上述第1半导体区域之间,与上述第4半导体区域导通;以及第3电极,与上述第4半导体区域相接。
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