[发明专利]布线基板的制造方法以及布线基板有效

专利信息
申请号: 201310097694.0 申请日: 2013-03-25
公开(公告)号: CN103369874B 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: 堀内章夫 申请(专利权)人: 新光电气工业株式会社
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46;H01L21/48;H01L23/498;H05K1/00
代理公司: 上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙)31239 代理人: 胡艳
地址: 日本长野县*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种可减少连接不良的布线基板制造方法以及布线基板。布线基板的制造方法包括在芯基板的第1面上交替层积多个第1布线图案和多个第1绝缘层,在芯基板的位于第1面相反侧的第2面上交替层积多个第2布线图案和多个第2绝缘层,将第2绝缘层之中的最外层的第2绝缘层除外的第2绝缘层的数量与第1绝缘层的数量不同;在第1绝缘层之中的最外层的第1绝缘层上形成通孔,使第1布线图案之中的最外层的第1布线图案的一部分露出;将最外层的第2绝缘层薄化,使第2布线图案之中的最外层的第2布线图案露出;以及在通孔内形成电柱,并且在最外层的第1绝缘层上形成通过通孔与最外层的第1布线图案连接的布线图案。
搜索关键词: 布线 制造 方法 以及
【主权项】:
一种布线基板的制造方法,包括:在芯基板的上表面上交替层积多个第1布线图案和多个第1绝缘层,在所述芯基板的位于所述上表面相反侧的下表面上交替层积多个第2布线图案和多个第2绝缘层,所述第2绝缘层之中的最外层的第2绝缘层除外的所述第2绝缘层的数量与所述第1绝缘层的数量不同;在所述第1绝缘层之中的最外层的第1绝缘层上形成通孔,使所述第1布线图案之中的最外层的第1布线图案的一部分露出;将所述最外层的第2绝缘层薄化,使所述第2布线图案之中的最外层的第2布线图案的下表面露出,从而使得所述薄化的最外层的第2绝缘层形成绝缘膜;形成第1晶种层和第2晶种层,所述第1晶种层将所述最外层的第1绝缘层的上表面、所述露出的最外层的第1布线图案的上表面、以及所述通孔的内表面覆盖,所述第2晶种层将所述绝缘膜的下表面以及所述露出的最外层的第2布线图案的下表面覆盖;形成第1抗蚀层和第2抗蚀层,所述第1抗蚀层将所述第1晶种层覆盖并且在与所述通孔对应的位置具有开口,所述第2抗蚀层将所述第2晶种层的整个下表面覆盖;利用所述第1晶种层,在所述通孔内形成电柱,在所述最外层的第1绝缘层上形成通过所述电柱与所述最外层的第1布线图案连接的布线图案;以及将所述第1抗蚀层和所述第2抗蚀层去除,将在所述最外层的第1绝缘层上露出的所述第1晶种层和所述第2晶种层去除。
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