[发明专利]一种图形化衬底制备方法有效
| 申请号： | 201310037405.8 | 申请日： | 2013-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN103117337A | 公开（公告）日： | 2013-05-22 |
| 发明（设计）人： | 郑远志;康建;徐琦;陈静;盛成功 | 申请（专利权）人： | 马鞍山圆融光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人： | 孙佳胤 |
| 地址： | 243000 安徽省马鞍山市马鞍*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种图形化衬底制备方法，包括如下步骤：在衬底表面形成光学膜；在光学膜上制备出图形化的掩模层；通过掩模层刻蚀光学膜；光学膜包括交替排布的光密介质层和光疏介质层，单层厚度为后续制作在衬底表面发光器件所发射的光在该介质内传输时波长的四分之一。本发明实现了传统图形化衬底和光学反射镜优势的有机结合，提高器件的内外量子效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 图形 衬底 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种图形化衬底制备方法，包括如下步骤：在衬底表面形成光学膜；在光学膜上制备出图形化的掩模层；通过掩模层刻蚀光学膜；其特征在于，光学膜包括交替排布的光密介质层和光疏介质层，单层厚度为后续制作在衬底表面发光器件所发射的光在该介质内传输时波长的四分之一。
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