[实用新型]金属有机化学气相沉积设备有效
| 申请号： | 201220711704.6 | 申请日： | 2012-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN203096168U | 公开（公告）日： | 2013-07-31 |
| 发明（设计）人： | 梁秉文 | 申请（专利权）人： | 光达光电设备科技（嘉兴）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 314300 浙江省嘉兴市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种金属有机化学气相沉积设备，所述金属有机化学气相沉积设备包括腔体，设置在所述腔体上部的进气装置、设置在所述腔体底部的衬底承载装置以及加热器，所述衬底承载装置与所述进气装置相对设置，所述加热器加热所述衬底承载装置，所述衬底承载装置包括承载板，所述承载板包括面向所述进气装置的支撑面，待处理衬底设置于所述支撑面，其特征在于：所述承载装置进一步包括多个定位销，所述定位销设置于所述支撑面，所述定位销用于限定待处理衬底在所述支撑面上的位置。本实用新型的金属有机化学气相沉积设备使得待处理衬底温度分布均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 有机化学 沉积 设备 | ||
【主权项】：
一种金属有机化学气相沉积设备，其包括腔体，设置在所述腔体上部的进气装置、设置在所述腔体底部的衬底承载装置以及加热器，所述衬底承载装置与所述进气装置相对设置，所述加热器加热所述衬底承载装置，所述衬底承载装置包括承载板，所述承载板包括面向所述进气装置的支撑面，待处理衬底设置于所述支撑面，其特征在于：所述承载装置进一步包括多个定位销，所述定位销设置于所述支撑面，所述定位销用于限定待处理衬底在所述支撑面上的位置。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
