[实用新型]金属有机化学气相沉积设备有效
申请号: | 201220711704.6 | 申请日: | 2012-12-20 |
公开(公告)号: | CN203096168U | 公开(公告)日: | 2013-07-31 |
发明(设计)人: | 梁秉文 | 申请(专利权)人: | 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 314300 浙江省嘉兴市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 有机化学 沉积 设备 | ||
一种金属有机化学气相沉积设备,其包括腔体,设置在所述腔体上部的进气装置、设置在所述腔体底部的衬底承载装置以及加热器,所述衬底承载装置与所述进气装置相对设置,所述加热器加热所述衬底承载装置,所述衬底承载装置包括承载板,所述承载板包括面向所述进气装置的支撑面,待处理衬底设置于所述支撑面,其特征在于:所述承载装置进一步包括多个定位销,所述定位销设置于所述支撑面,所述定位销用于限定待处理衬底在所述支撑面上的位置。
根据权利要求1所述的金属有机化学气相沉积设备,其特征在于:所述定位销的横截面积小于或等于4平方毫米。
根据权利要求2所述的金属有机化学气相沉积设备,其特征在于:待处理衬底设置在所述支撑面上并与所述定位销接触时,待处理衬底与定位销点接触。
根据权利要求2所述的金属有机化学气相沉积设备,其特征在于:所述定位销的横截面为圆形、多边形或椭圆形。
根据权利要求2至4中任一个所述的金属有机化学气相沉积设备,其特征在于:所述定位销在所述支撑面上的设置使得待处理衬底能够在所述支撑面上呈蜂窝状排列。
根据权利要求1所述的金属有机化学气相沉积设备,其特征在于:所述支撑面具有多个定位孔,所述定位销通过插入到所述定位孔中而设置在所述支撑面。
根据权利要求6所述的金属有机化学气相沉积设备,其特征在于:所述多个定位孔在所述支撑面上的排布设置使得待处理衬底可以以多种排布方式在所述支撑面上排布。
根据权利要求7所述的金属有机化学气相沉积设备,其特征在于:所述待处理衬底包括大衬底和小衬底,所述大衬底的尺寸大于所述小衬底,所述待处理衬底的排布方式包括小衬底排布、大衬底和小衬底混合排布、大衬底排布。
根据权利要求7所述的金属有机化学气相沉积设备,其特征在于:所述待处理衬底的排布方式包括蜂窝状排布和沿所述承载板径向分层排布。
根据权利要求6所述的金属有机化学气相沉积设备,其特征在于:所述定位销还包含有铁磁性材料部。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于光达光电设备科技(嘉兴)有限公司,未经光达光电设备科技(嘉兴)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220711704.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的