[实用新型]一种半导体晶片抛光系统

摘要

本实用新型提供一种半导体晶片清洗装置及其抛光系统，该抛光系统包括：能够上下移动的抛光台、抛光垫、能够上下左右移动的抛光头、抛光剂供给部件、半导体晶片清洗装置；抛光垫紧贴于抛光台上表面；抛光头设于抛光垫上方，用以保持抛光目标；抛光剂供给部件设于抛光垫的上方且位于抛光头的一侧；半导体晶片清洗装置设于抛光台的一侧，用于清洗抛光目标；半导体晶片清洗装置包括清洗槽，清洗槽内设有清洗剂喷射部件；半导体晶片清洗装置还包括清洗剂供给部件，清洗剂供给部件与清洗剂喷射部件相通。本实用新型实现了每个抛光目标在抛光后的自动清洗，避免了抛光目标在抛光后和清洗前与空气接触，彻底清除了抛光目标表面的化学残留。

主权项

一种半导体晶片抛光系统，其特征在于，所述半导体晶片抛光系统包括： 能够上下移动的抛光台； 抛光垫，紧贴于所述抛光台上表面； 能够上下左右移动的抛光头，设于所述抛光垫上方，用以保持抛光目标； 抛光剂供给部件，设于所述抛光垫的上方且位于抛光头的一侧； 半导体晶片清洗装置，设于所述抛光台的一侧，用于清洗抛光目标；所述半导体晶片清洗装置包括清洗槽，所述清洗槽内设有清洗剂喷射部件；所述半导体晶片清洗装置还包括清洗剂供给部件，所述清洗剂供给部件与所述清洗剂喷射部件相通。