[实用新型]绝缘栅双极型晶体管有效

专利信息
申请号: 201220341907.0 申请日: 2012-07-13
公开(公告)号: CN202888184U 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 鸟居克行 申请(专利权)人: 三垦电气株式会社
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/06
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 实用新型提供了一种绝缘栅双极型晶体管,在其沟槽间,形成有凹陷部,使得射极区域和第1导电型的基极区域露出,凹陷部由第1凹陷部和第2凹陷部构成,凹陷部具有在第1凹陷部的底部的内侧设置有比第1凹陷部的宽度窄的第2凹陷部的结构。通过本实用新型的2阶段的凹陷部的结构,使得其栅极沟槽结构不易折断。
搜索关键词: 绝缘 栅双极型 晶体管
【主权项】:
一种绝缘栅双极型晶体管,其具有:半导体衬底,其具有第1主面以及第2主面并且在所述第1主面上还具有多个沟槽;射极电极,其配置在所述第1主面上;集电极电极,其配置在所述第2主面上;绝缘膜,其配置在所述沟槽的壁面上;栅极电极,其配置在所述沟槽中;以及层间绝缘膜,其形成在所述沟槽上方,并处于所述射极电极和所述沟槽间,其特征在于,所述半导体衬底具有:第1导电型的集电极区域,其配置成在所述第2主面上露出;第2导电型的漂移区域,其配置在所述集电极区域的上方;第1导电性的基极区域,其配置在所述第2导电型的漂移区域的上方;以及第2导电型的射极区域,其邻接配置在与所述第1导电型的基极区域并且在所述第1主面上露出,所述沟槽具有比从所述第1主面起到所述第1导电型的基极区域的下部更深的深度,在所述沟槽间,形成凹陷部,使得所述射极区域和所述第1导电型的基极区域露出,所述凹陷部由第1凹陷部和第2凹陷部构成,所述凹陷部具有在所述第1凹陷部的底部的内侧设置有比所述第1凹陷部的宽度窄的第2凹陷部的结构。
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