[发明专利]片式膜衰减器厚膜制作方法有效

专利信息
申请号: 201210555502.1 申请日: 2012-12-19
公开(公告)号: CN103022629A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 罗彦军;李胜;刘剑林;罗向阳;谢强;韩玉成;郭娜;廖东;蒿旅罗;谢旺阳 申请(专利权)人: 中国振华集团云科电子有限公司
主分类号: H01P11/00 分类号: H01P11/00
代理公司: 云南派特律师事务所 53110 代理人: 岳亚苏
地址: 550018 贵州省*** 国省代码: 贵州;52
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种片式膜衰减器厚膜制作方法,包括丝网制作、印刷表电极、印刷背电极、印刷电阻体、激光调阻、裂片、端涂、电镀等工艺,而制出的衰减器具有体积小、重量轻、性能稳定、膜层多、能够进行不同切割方向调阻,电阻温度系数一致性很好,缩小了产品体积,使用方便,且生产设备和工装夹具成本低,能连续大批量进行生产,电阻值范围极宽,可批量生产;同时,在工艺制作过程中可根据需要调整电阻值,衰减器参数设计非常灵活。
搜索关键词: 片式膜 衰减器 制作方法
【主权项】:
一种片式膜衰减器厚膜制作方法,其特征在于,包括丝网制作、印刷表电极、印刷背电极、印刷电阻体、激光调阻、裂片、端涂、电镀,具体制作方法如下:①按常规方法印刷丝网图形制作、印刷表电极,保证印刷厚度干燥后达到13~22微米,印刷厚度烧成后达到6~13微米;②按常规方法印刷背电极,保证印刷厚度干燥后达到8~17微米;③将印刷有表、背电极的基片在850℃下烧成;④采用常规印刷方式分步印刷电阻体,使电阻膜层与表电极膜层之间的错位≤0.1毫米,并保证印刷膜厚干燥后达到14~22微米,印刷膜厚烧成后达到7~15微米;⑤按常规方法印刷一次玻璃,保证印刷厚度干燥后达到12~26微米,在600℃下烧成;⑥按常规方法印刷二次玻璃,印刷三层,将电阻体、一次玻璃及表电极W方向完全覆盖,保证印刷膜厚干燥后达到30~70微米,印刷标志玻璃,端涂,600℃烧成;⑦使用探针卡通过不同方向上切割对三个电阻采用逐次逼近法进行调阻,印刷包封层;⑧按常规方式依次进行一次裂片、二次裂片、端涂;电镀。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国振华集团云科电子有限公司,未经中国振华集团云科电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210555502.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top