[发明专利]用于双向高压ESD防护的双载子晶体管有效
申请号: | 201210458417.3 | 申请日: | 2012-11-15 |
公开(公告)号: | CN103811539A | 公开(公告)日: | 2014-05-21 |
发明(设计)人: | 陈信良;杜硕伦 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/73 | 分类号: | H01L29/73;H01L29/06;H01L27/02;H01L27/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种EPI工艺以新式应用低压架构用于双向高压ESD防护的双向双载子晶体管(BJT)。一种双向静电放电(ElectrostaticDischarge,ESD)防护装置可包括一衬底、一N+掺杂埋层、一N型阱区以及两个P型阱区;该N+掺杂埋层可以被沉积为邻近于该衬底;该N型阱区可能围绕该两个P型阱区,使得该N型阱区的一部分介于该两个P型阱区之间;该两个P型阱区可以被沉积为邻近于该N+掺杂埋层,并包括一或多个N+掺杂板以及一或多个P+掺杂板。 | ||
搜索关键词: | 用于 双向 高压 esd 防护 双载子 晶体管 | ||
【主权项】:
一种双向双载子晶体管(BJT),包括:一p型衬底;一N+掺杂埋层,其被沉积为邻接于该衬底;一第一P型阱区,其被沉积为邻接于该N+掺杂埋层;一第二P型阱区,其被沉积为相邻于该N+掺杂埋层;以及一N型阱区域,其相邻于该N+掺杂埋层且围绕该第一与第二P型阱区,使得该N型阱区域的至少一部分是介于该第一与第二P型阱区之间;其中该第一与第二P型阱中的每一个都包括至少一N+掺杂板与至少一P+掺杂的板。
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