[发明专利]金属和电介质相容的牺牲性抗反射涂层清洗及去除组合物有效
| 申请号： | 201210452842.1 | 申请日： | 2006-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN102981377A | 公开（公告）日： | 2013-03-20 |
| 发明（设计）人： | 梅利莎·K·拉斯;大卫·D·伯恩哈德;大卫·W·明赛克;托马斯·H·鲍姆 | 申请（专利权）人： | 高级技术材料公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 杨海荣;穆德骏 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了金属和电介质相容的牺牲性抗反射涂层清洗及去除组合物。所述清洗及去除组合物包括至少一种含氟化合物、至少一种有机溶剂、任选的水和任选的至少一种螯合剂。所述组合物在集成电路的制造中实现了SARC材料的至少部分的去除，而在基板上的例如铝、铜和钴合金的金属物质的蚀刻最少，并且不破坏在半导体结构中所使用的低-k介电材料。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 电介质 相容 牺牲 反射 涂层 清洗 去除 组合 | ||
【主权项】：
一种液体去除组合物，其包含至少一种含氟化合物、至少一种有机溶剂、任选的水和任选的至少一种螯合剂，其中所述液体去除组合物适用于从其上具有牺牲性抗反射涂层(SARC)材料和蚀刻后残留物的微电子器件上去除这些材料和残留物。
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