[发明专利]金属和电介质相容的牺牲性抗反射涂层清洗及去除组合物

权利要求书

1.一种液体去除组合物，其包含至少一种含氟化合物、至少一种有机溶剂、任选的水和任选的至少一种螯合剂，其中所述液体去除组合物适用于从其上具有牺牲性抗反射涂层(SARC)材料和蚀刻后残留物的微电子器件上去除这些材料和残留物。

2.权利要求1的液体去除组合物，其中所述至少一种含氟化合物包含选自如下的物质：氟化氢，氟化铵，三乙醇胺氢氟酸盐，氟化氢铵((NH₄)HF₂)，具有式(R)₄NHF₂的四烷基氟化氢铵其中R为甲基、乙基、丙基、丁基、苯基、苄基或氟化的C₁-C₄烷基。

3.权利要求1的液体去除组合物，其中所述至少一种含氟化合物包含氟化氢。

4.权利要求1的液体去除组合物，其中所述至少一种有机溶剂包含至少一种醇和至少一种二醇醚，其中所述至少一种醇包括甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、叔丁醇、1-戊醇及其组合，其中基于所述组合物的总重，所述至少一种含氟化合物的量为0.01~25重量%，所述至少一种醇的含量为0.01~99重量%，所述至少一种二醇醚的含量为0.01~99重量%，且水的含量为0.01~10重量%。

5.权利要求1的液体去除组合物，其中所述至少一种有机溶剂包含四氢噻吩砜和至少一种二醇，其中基于所述组合物的总重，所述至少一种含氟化合物的量为0.01~25重量%，所述四氢噻吩砜的含量为0.01~99重量%，所述至少一种二醇的含量为0.01~99重量%，且水的含量为0.01~10重量%。

6.权利要求1的液体去除组合物，其中所述至少一种有机溶剂包含四氢噻吩砜、至少一种二醇和至少一种二醇醚，其中基于所述组合物的总重，所述至少一种含氟化合物的量为0.01~25重量%，所述四氢噻吩砜的含量为0.01~99重量%，所述至少一种二醇的含量为0.01~99重量%，且所述至少一种二醇醚的含量为0.01~99重量%。

7.权利要求4~6中任一项的液体去除组合物，其中所述至少一种二醇包含选自如下的物质：乙二醇、丙二醇、1,4-丁二醇、新戊二醇及其组合，且

其中所述至少一种二醇醚包含选自如下的物质：二乙二醇单甲醚、三乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、三乙二醇单乙醚、乙二醇单丙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单丁醚、三乙二醇单丁醚、丙二醇甲醚、二丙二醇甲醚、三丙二醇甲醚、丙二醇正丙醚、二丙二醇正丙醚、三丙二醇正丙醚、丙二醇正丁醚、二丙二醇正丁醚、三丙二醇正丁醚及其组合。

8.权利要求1的液体去除组合物，其包含至少一种选自如下的螯合剂：苯并三唑、甲苯基三唑、5-苯基-苯并三唑、5-硝基-苯并三唑、3-氨基-5-巯基-1,2,4-三唑、1-氨基-1,2,4-三唑、羟基苯并三唑、2-(5-氨基-戊基)-苯并三唑、1-氨基-1,2,3-三唑、1-氨基-5-甲基-1,2,3-三唑、3-氨基-1,2,4-三唑、3-巯基-1,2,4-三唑、3-异丙基-1,2,4-三唑、5-苯硫基-苯并三唑、卤代苯并三唑、萘并三唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基苯并噻唑、4-甲基-2-苯基咪唑、2-巯基噻唑啉、5-氨基四唑、5-氨基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇、2,4-二氨基-6-甲基-1,3,5-三嗪、噻唑、三嗪、甲基四唑、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、1,5-五亚甲基四唑、1-苯基-5-巯基四唑、二氨甲基三嗪、巯基苯并噻唑、咪唑啉硫酮、巯基苯并咪唑、4-甲基-4H-1,2,4-三唑-3-硫醇、5-氨基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇、苯并噻唑、磷酸三甲苯酯、苯并异二唑、鸟嘌呤、腺嘌呤、甘油、硫代甘油、次氮基三乙酸、水杨酰胺、亚氨基二乙酸、苯并胍胺、三聚氰胺、硫氰尿酸、邻氨基苯甲酸、没食子酸、抗坏血酸、水杨酸、8-羟基喹啉、5-羧酸-苯并三唑、3-巯基丙醇、硼酸、亚氨基二乙酸及其组合。

9.权利要求1的液体去除组合物，其中所述组合物的pH处于1至5的范围内。

10.一种从其上具有SARC材料和/或蚀刻后残留物的微电子器件上去除所述材料和残留物的方法，所述方法包括使所述微电子器件与权利要求1~9中任一项的液体去除组合物接触足够的时间，从而至少部分地从所述微电子器件上去除所述材料和残留物。