[发明专利]化学汽相沉积膜轮廓均匀性控制有效

专利信息
申请号: 201210271435.0 申请日: 2012-07-31
公开(公告)号: CN103147071A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 郭铭修;李志聪;周友华;蔡明志;陈嘉和;林进祥 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: C23C16/52 分类号: C23C16/52;C23C16/455
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;孙征
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 本公开提供了控制化学汽相沉积(CVD)膜的轮廓均匀性的方法和系统。一种方法包括利用第一喷头通过CVD在衬底上沉积第一层,该第一层具有第一轮廓,以及利用第二喷头通过CVD在第一层上方沉积第二层,该第二层具有第二轮廓。组合的第一层和第二层具有第三轮廓,并且第一轮廓、第二轮廓,以及第三轮廓彼此不同。
搜索关键词: 化学 沉积 轮廓 均匀 控制
【主权项】:
一种控制化学汽相沉积(CVD)膜轮廓均匀性的方法,所述方法包括:利用第一喷头通过CVD在衬底上沉积第一层,所述第一层具有第一轮廓;以及利用第二喷头通过CVD在所述第一层上方沉积第二层,所述第二层具有第二轮廓,其中,组合的第一层和第二层具有第三轮廓,以及其中,所述第一轮廓、所述第二轮廓以及所述第三轮廓彼此不同。
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