[发明专利]晶圆级封装结构及其制造方法无效
申请号: | 201210066189.5 | 申请日: | 2012-03-14 |
公开(公告)号: | CN102683226A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 目黑弘一;大塚宽治 | 申请(专利权)人: | SKLink株式会社 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56;H01L21/768;H01L23/31 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 杨海荣;穆德骏 |
地址: | 日本,*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种可抑制切割刀磨损而延长切割刀寿命的晶圆级封装结构及其制造方法。晶圆级封装制造方法例如包含:树脂形成步骤(400),在基板(450)的表面上,形成包含形成着配线的槽(462)的绝缘性第一树脂(460);第一成膜步骤(410),在第一树脂(460)的表面,通过物理气相生长成膜成为部分配线的第一金属(470);第二成膜步骤(420),在第一金属(470)的表面上,进一步成膜成为配线的一部分的硬度比第一金属(470)低的第二金属(480);设置步骤(430),在和槽(462)的侧面未成膜第一金属(470)的部位或变薄的部位相当的高度H0、H1处设置切割刀(490);以及切割步骤(440),通过扫描切割刀(490),至少将第一树脂(460)切割。 | ||
搜索关键词: | 晶圆级 封装 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种晶圆级封装的制造方法,其特征在于包含:树脂形成步骤,在基板的表面上形成包含形成着配线的槽的绝缘性第一树脂;第一成膜步骤,在所述第一树脂的表面,通过物理气相生长成膜成为部分所述配线的第一金属;第二成膜步骤,在所述第一金属的表面,成膜成为所述配线的一部分的硬度比所述第一金属低的第二金属;设置步骤,在所述槽的侧面的未成膜所述第一金属的高度设置切割刀;以及切割步骤,通过扫描所述切割刀,至少切割所述第一树脂。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造