[发明专利]高穿透率的封装发光二极管有效

专利信息
申请号: 201210011125.5 申请日: 2012-01-13
公开(公告)号: CN103208575B 公开(公告)日: 2017-02-08
发明(设计)人: 蔡凯雄;李建立 申请(专利权)人: 蔡凯雄;李建立
主分类号: H01L33/48 分类号: H01L33/48;H01L33/56;C08L83/04
代理公司: 北京泰吉知识产权代理有限公司11355 代理人: 张雅军,秦小耕
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种高穿透率的封装发光二极管,包含一个基板、一个发光元件、一个引线单元,及一个耐热层。该发光元件形成在该基板上。该引线单元连接该基板与该发光元件。该耐热层至少形成在该发光元件上且该耐热层的成分包括硅利光树脂及0.1%至10%重量百分比的环氧基硅烷。借此,使该耐热层的粘合效果较佳、穿透率较高,且不会黄变,能提高该高穿透率的封装发光二极管的使用寿命。
搜索关键词: 穿透 封装 发光二极管
【主权项】:
一种高穿透率的封装发光二极管,包含一个基板、一个形成在该基板上的发光元件、一个连接该基板与该发光元件的引线单元、一个至少形成在该发光元件上的耐热层,其特征在于:该耐热层的成分包括硅利光树脂及0.1%至10%重量百分比的环氧基硅烷,且该环氧基硅烷是选自于通式(I)或通式(II):其中,R为CH3烷基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于蔡凯雄;李建立,未经蔡凯雄;李建立许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210011125.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top