[发明专利]一种多沉积室CVI致密炭/炭坩埚的装置及方法有效
申请号: | 201110433814.0 | 申请日: | 2011-12-20 |
公开(公告)号: | CN102433543A | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
发明(设计)人: | 苏君明;胡振英;肖志超;陈青华;彭志刚;孟凡才;杨漫;刘伟;张永辉;赵上元;张旭辉 | 申请(专利权)人: | 西安超码科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/455;C04B35/83;C30B15/10 |
代理公司: | 西安创知专利事务所 61213 | 代理人: | 谭文琰 |
地址: | 710075 陕西省西安*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种多沉积室CVI致密炭/炭坩埚的装置及方法,其装置,包括由炉外罐和炉内罐组成的化学气相沉积炉,还包括由下至上布设在炉内罐内的多层石墨隔板和由下至上插入至炉内罐内的多根进气管密,相邻两层石墨隔板间均通过多个石墨支撑柱进行分隔;位于最顶层的石墨隔板上部设置有封气板;相邻两层石墨隔板之间以及封气板与位于最顶层的石墨隔板之间均形成一个独立的沉积室,多个沉积室由上至下进行布设,多根进气管由下至上分别插装入多个沉积室内;其致密方法包括步骤:一、坩埚预制体装炉;二、致密处理。本发明结构简单、设计合理、组装方便且使用操作简便、使用效果好,具有致密效果好、密度均匀性好、装炉量大等特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 沉积 cvi 致密 坩埚 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种多沉积室CVI致密炭/炭坩埚的装置,包括由炉外罐和炉内罐(1)组成的化学气相沉积炉,其特征在于:还包括由下至上布设在炉内罐(1)内且均呈水平向布设的多层石墨隔板(3)、由下至上插入至炉内罐(1)内的多根进气管(7)和密封安装在炉内罐(1)上的炉盖(9),相邻两层所述石墨隔板(3)之间均通过呈竖直向布设的多个石墨支撑柱(6)进行分隔,且多个所述石墨支撑柱(6)沿石墨隔板(3)的外边缘线进行布设;所述炉内罐(1)的内侧底部设置有供位于最底层的石墨隔板(3)水平铺装的石墨支架(2),所述石墨支架(2)呈水平向布设;多层所述石墨隔板(3)的结构相同且呈均匀布设,相邻两层所述石墨隔板(3)之间的间距大于需致密炭/炭坩埚预制体(5)的竖向高度;多层所述石墨隔板(3)上均设置有多个供需致密炭/炭坩埚预制体(5)水平放置的石墨垫块(4),多个所述石墨垫块(4)呈均匀布设;位于最顶层的石墨隔板(3)上部设置有一个呈水平向的封气板(8),所述封气板(8)与位于最顶层的石墨隔板(3)之间通过呈竖直向布设的多个石墨支撑柱(6)进行分隔且二者之间的间距大于被致密炭/炭坩埚预制体(6)的竖向高度,相邻两层所述石墨隔板(3)之间以及所述封气板(8)与位于最顶层的石墨隔板(3)之间均形成一个独立的沉积室,所述沉积室的数量为多个,多个所述沉积室由上至下进行布设且所述沉积室的数量与所述石墨隔板(3)的数量相同;所述进气管(7)数量与所述沉积室的数量相同,且多根所述进气管(7)分别向多个所述沉积室内通入碳源气体,所述炉盖(9)中部开有出气口(10);所述封气板(8)由炭/炭复合材料制成,所述石墨隔板(3)与炉内罐(1)之间留有出气缝隙;多根所述进气管(7)均呈竖直向布设且其直径均相同,多根所述进气管(7)由下至上分别插装入多个所述沉积室内。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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